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稳定塘污水处理技术的种类和功能+ W' @3 B4 e2 ^ E f7 L; I, u
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# ?. i5 U0 u' i) J2 } 稳定塘又称氧化塘,是一种天然的或经过一定人工修整的有机废水处理池塘。按照占优势的微生物种属和相应的生化反应,可分为好氧塘、兼性塘、曝气塘和厌氧塘四种类型。
4 j+ p% m# B) h* s, k6 H(一)好氧塘 好氧塘是一种主要靠塘内藻类的光合作用供氧的氧化塘。它的水深较浅,一般在0.3至0.5m,阳光能直接射透到池底,藻类生长旺盛,加上塘面风力搅动进行大气复氧,全部塘水都呈好氧状态。 按照有机负荷的高低,好氧塘可分为高速率好氧塘、低速率好氧塘和深度处理塘。高速率好氧塘用于气候温暖、光照充足的地区处理可生化性好的工业废水,可取得BOD去除率高、占地面积少的效果,并副产藻类饲料。低速率好氧塘是通过控制塘深来减小负荷,常用于处理溶解性有机废水和城市二级处理厂出水。深度处理塘(精制塘),主要用于接纳已被处理到二级出水标准的废水,因而其有机负荷很小。! e( U- M& o/ K& t+ f: K# |: E" Y% I
(二) 兼性塘 兼性塘的水深一般在1.5至2m ,塘内好氧和厌氧生化反应兼而有之。在上部水层中,白天藻类光合作用旺盛,塘水维持好氧状态,其净化极力和各项运行指标与好氧塘相同;在夜晚,藻类光合作用停止,大气复氧低于塘内耗氧,溶解氧急剧下降至接近于零。在塘底,由可沉固体和藻、菌类残体形成了污泥层,由于缺氧而进行厌氧发酵,称为厌氧层。在好氧层和厌氧层之间,存在着一个兼性层。 兼性层是氧化塘中最常用的塘型,常用于处理城市一级沉淀或二级处理出水。在工业废水处理中,常在曝气塘或厌氧塘之后作为二级处理塘使用,有的也作为难生化降解有机废水的贮存塘和间歇排放塘(污水库)使用。由于它在夏季的有机负荷要比冬季所允许的负荷高得多,因而特别适用于处理在夏季进行生产的季节性食品工业废水。
1 }2 i( ?. j! R2 I" t(三) 曝气塘 为了强化塘面大气复氧作用,可在氧化塘上设置机械曝气或水力曝气器,使塘水得到不同程度的混合而保持好氧或兼性状态。曝气塘有机负荷和去除率都比较高,占地面积小,但运行费用高,且出水悬浮物浓度较高,使用时可在后面连接兼性塘来改善最终出水水质。% i- n6 }8 a& M0 @
(四) 厌氧塘 厌氧塘的水深一般在2.5m以上,最深可达4至5m。当塘中耗氧超过藻类和大气复氧时,就使全塘处于厌氧分解状态。因而,厌氧塘是一类高有机负荷的以厌氧分解为主的生物塘。其表面积较小而深度较大,水在塘中停留20至50d。它能以高有机负荷处理高浓度废水,污泥量少,但净化速率慢、停留时间长,并产生臭气,出水不能达到排放要求,因而多作为好氧塘的预处理塘使用。 以上四类氧化塘的主要性能分别列于下表。
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7 U5 W' W$ n3 n, x9 S1 k. e好氧塘
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兼性塘
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- v. d+ o, Y$ q3 X曝气塘
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9 w3 B" K) O$ v* ~7 N6 T厌氧塘
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/ c6 A! ?3 z3 h1 t5 p4 S+ u8 ^' ?( Q典型BOD负荷()
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16-80. g3 L# o) h8 z. r) v
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常用停留时间(d): X: q# ?: m8 |, D1 @4 N9 Q. c
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水深(m)7 P* H ~7 H3 n7 a) U5 p
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. @) b6 ]2 n9 V% R去除率(%)! j6 F! O* N( S4 f& e* f4 x9 _3 p6 }/ |
7 x+ R: H# _0 T) f. L* X. {. O80-95
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50-75! G; B1 M1 n' \' \! _8 v( Z
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50-80
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2 ?0 A# i& Z: D0 ~- e50-70
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' A. b7 j! d1 Q出水中藻类浓度(mg/L)
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>100
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10-50
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主要用途及优缺点. S; c' A) V1 G6 w
( A: I1 B/ F8 ]$ w一般用于处理其他生物处理的出水。出水中水溶性浓度低,但藻类固体受到限制
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1 Y6 D5 g7 M; V常用于处理城市原污水及初级处理、生物滤池、爆气塘或厌氧出水。运行管理方便,对水量、水质变化的适应能力强,是氧化塘中最常用的池型9 |, U/ l/ f' a8 N, w% z
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常接在兼性塘后,用于工业废水处理。易于操作维护,塘水混合均匀,有机负荷和去除率较高2 n' @* L0 \9 K) a* ]# l
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用于高浓度有机废水的初级处理,后接好氧塘可提高出水水质。污泥量少,有机负荷高。但出水质差,并产生臭气$ [1 |7 e3 I4 d+ f& r( M( A% ?2 }; T
各类稳定塘的主要性能
8 { U5 X) [9 w. ^2 B表中各项性能均受控于阳光辐射值、温度、养料及毒物等多种因素。因此,其具体数值也因纬度高低、气象条件和水质状况的不同而异。 , w Q: D/ x$ _& z
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